智研咨詢發布的《2020-2026年電子工程用高純硅烷產業發展態勢及投資風險評估報告》共八章 。首先介紹了電子工程用高純硅烷行業
發展環境、電子工程用高純硅烷整體運行態勢等,接著分析了電子工程用高純硅烷行業市場運行的現狀,然后介紹了電子工程用高純硅烷市場
格局。隨后,報告對電子工程用高純硅烷做了
企業經營狀況分析,最后分析了電子工程用高純硅烷行業發展
與投資
。您若想對電子工程用高純硅烷產業有個系統的了解或者想投資電子工程用高純硅烷行業,本報告是您不可或缺的重要工具。
本研究報告主要采用國家統計數據,海關總署,問卷調查數據,商務部采集數據等數據庫。其中宏觀經濟數據主要來自國家統計局,部分行業統計數據主要來自國家統計局及市場調研數據,企業數據主要來自于國統計局規模企業統計數據庫及證券交易所等,價格數據主要來自于各類市場監測數據庫。
報告目錄:
第一章 半導體、光伏產業用高純硅烷概述
1.1 高純硅烷簡介
1.2 高純硅烷的主要基本性能與質量指標
1.3 高純硅烷的主要應用領域
1.4 高純硅烷在發展我國電子工業中的重要作用
章 電子特種氣體及其應用市場
2.1 電子特種氣體概述
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面
2.3 電子特種氣體的純凈度要求
2.4 電子特種氣體產品市場競爭的焦點問題
2.4.1 對電子特種氣體雜質、純度要求的問題
2.4.2 氣體配送及供應問題
2.4.3 儲存、使用中的安全性問題
2.4.4 成本性問題
2.5 國內外電子特種氣體行業發展概述
2.5.1 境外電子特種氣體生產與市場情況
2.5.2 國內電子特種氣體行業及其發展
第三章 高純硅烷氣體性能指標及制備、凈化的工藝路線
3.1 高純硅烷的性能指標
3.2 高純硅烷工業化制備的典型工藝路線
3.2.1 制備工藝法概述
3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷
3.2.2 .1 工藝過程
3.2.2 .2 主要反應
3.2.2 .3 工藝特點
3.2.2 .4 工藝法存在的問題
3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷
3.2.3 .1 工藝過程
3.2.3 .2 主要反應
3.2.3 .3 工藝特點
3.2.3 .4 工藝法存在的問題
3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷
3.2.4 .1 工藝過程
3.2.4 .2 主要反應
3.2.4 .3 工藝特點
3.2.4 .4 工藝法存在的問題
3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷
3.2.5 .1 工藝過程
3.2.5 .2 主要反應
3.2.5 .3 工藝特點
3.2.5 .4 工藝法存在的問題
3.2.6 烷氧基硅烷歧化法
3.2.6 .1 工藝過程
3.2.6 .2 主要反應
3.2.6 .3 工藝特點
3.2.6 .4 工藝法存在的問題
3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線
3.3.1 氣體的凈化方法概述
3.3.2 高純硅烷的凈化過程
3.4 工業高純硅烷氣體的包裝及貯運
第四章 國內外高純硅烷生產與主要企業現況
4.1 世界高純硅烷產銷、市場規模的概況
4.2 國外高純硅烷主要生產企業產銷情況
4.3 國外高純硅烷主要生產企業簡況
4.3.1 REC Silicon公司
4.3.2 Dowcorning公司
4.3.3 SODIFF新素材有限公司
4.3.4 MEMC公司
4.3.5 Air Liquid公司
4.3.6 日本電氣工業公司
4.3.7 大陽日酸公司
4.3.8 Evonik Industries公司
4.4 國內硅烷業的發展概述
4.4.1 我國高純硅烷業發展的概述
4.4.2 我國硅烷研發、生產的歷史
4.5 國內高純硅烷生產企業現況
4.5.1 國內高純硅烷生產企業總述
4.5.2 浙江中寧硅業有限公司
4.5.3 浙江賽林硅業有限公司
4.5.4 滁州市硅谷特種氣體有限公司
4.5.5 六九硅業有限公司
4.5.6 浙江金華美晶硅電子有限公司
4.5.7 黑龍江金業電子氣體股份有限公司
4.5.8 深圳市金業長健新材料股份有限公司
第五章 高純硅烷主要應用領域的概述
5.1 高純硅烷在集成電路中的應用
5.1.1 集成電路芯片制程
5.1.2 化學氣相沉積和氣體應用
5.1.3 高純硅烷在化學氣相沉積中作為氣源形成的薄膜
5.2 高純硅烷在薄膜硅太陽電池中的應用
5.2.1 非晶硅薄膜太陽能電池
5.2.2 Si薄膜的材料特性
5.2.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應用
5.3 高純硅烷在液晶顯示器中的應用
5.4 高純硅烷在其它領域的應用
5.4.1 在特種玻璃制造中的應用
5.4.2 在電子部件制造中的應用
5.4.3 在化合物半導體材料制造中的應用
5.5 高純硅烷在電子信息產品中應用市場需求量的測算
第六章 高純硅烷主要應用市場之一—集成電路產業的現況與趨勢
6.1 世界半導體硅片生產與市場發展
6.1.1 世界半導體生產的現況
6.1.2 世界半導體硅片的生產狀況
6.2 我國半導體晶圓生產與市場現況與發展
6.2.1 我國集成電路市場、產業發展現狀
6.2.2 我國集成電路晶圓制造業情況
第七章 高純硅烷主要應用市場之二 —薄膜太陽能電池產業的現況與趨勢
7.1 國內外光伏產業的發展
7.1.1 世界光伏產業的快速發展
7.1.2 我國光伏產業發展環境與現況
7.2 薄膜太陽能電池的生產與市場
7.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種
7.2.2 薄膜太陽能電池未來市場發展前景
7.2.3 薄膜太陽能電池生產及在光伏市場上的份額變化
7.3 國內外薄膜太陽能電池的主要生產企業
第八章 高純硅烷主要應用市場之三 —液晶顯示器產業的現況與趨勢(ZY ZS)
8.1 世界平板顯示器產業發展現況
8.2 我國平板顯示器產業現況與未來發展預測
8.2.1 我國液晶顯示產業發展概述
8.2.2 我國LCD面板生產現況與未來幾年發展預測
8.2.3 我國發展平板顯示產業的相關政策及未來發展的預測、分析
部分圖表目錄:
圖表 1 硅烷性能比較
圖表 2 氣體按其特性分類圖
圖表 3 雜質對硅低溫選擇性外延沉積的影響
圖表 4 露點與集成度的關系
圖表 5 微粒直徑與集成度的關系
圖表 6 特殊氣體供應流程圖
圖表 7 硅烷的性能指標
圖表 8 氫化鋰還原三氯氫硅制備硅烷工藝流程圖
圖表 9 2015-2019年世界高純硅烷產銷分析
圖表 10 2015-2019年世界高純硅烷市場規模分析
圖表 11 2019年國外高純硅烷主要生產企業產銷情況
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